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真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产光学镜片,如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜,唱片镀铝,呼和浩特五金真空镀膜厂、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色,机械刀具镀膜,改变加工红硬性。在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜,呼和浩特五金真空镀膜厂,呼和浩特五金真空镀膜厂、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜不产生废液,可避免对环境的污染。呼和浩特五金真空镀膜厂
真空镀膜技术一般分为两大类,即物理的气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理的气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理的气相沉积方法制得,它利用某种物理过程,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理的气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时,物理的气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,借助气相作用或基体表面上的化学反应,在基体上制出金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。表面真空镀膜企业真空镀膜常用在相机镜头、近视、远视、老花镜等矫正眼镜上使用。
真空镀膜工艺对应用环境有着严谨的要求,对于常规的真空工艺来说,它对真空卫生主要是要求:在真空中的设备的零件或表面无积存的污染源、真空室表面光滑且无松软组织和气孔和死空间、真空设备内焊缝不会影响真空、高真空设备不得用机油作润滑剂、无油**高真空系统应避免因油蒸气而对工作介质的纯度、工作性能或表面特性造成影响、**高真空金属系统常以1Cr18Ni9Ti作为结构材料、置放真空镀膜设备的实验室或车间应保持清洁卫生等。真空镀膜工艺对环境的基本要求主要有:真空室内的高度清洁、置于清洁度高的工作间、镀膜室内的灰尘等。部分地区空气湿度较大,所以,在镀前不只要清洗基片、真空室内的各部件,还需做烘烤除气工作。此外,为防止真空室内带入油,还需注意施加油扩散泵的返油、挡油等措施。
目前真空镀膜技术中所采用的镀膜方法主要有:真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、束流沉积镀以及分子束外延和化学汽相沉积镀等多种。真空镀膜法是一种新的镀膜工艺,由于镀膜制备工艺是在真空条件下进行的,故称真空镀膜法,亦称干式镀膜法,它与湿式镀膜法比较有如下特点:①真空下制备薄膜,环境清洁,膜不易受污染,可获得致密性好,纯度高,膜厚均匀的涂层。②膜材和基体材料有非常广的选择性,薄膜厚度可进行控制,可以制备各种不同的功能性薄膜。③膜和基体附着强度好,膜层牢固。④不产生废液,可避免对环境的污染。真空镀膜,简单地理解就是在真空环境下,使用蒸镀、溅射以及随后凝聚的办法。
真空镀膜设备的维护与保养:1、当粗抽泵(滑阀泵,旋片泵)连续工作一个月(雨季减半),需更换新油。方法是:拧开放油螺栓,放掉旧油,再将泵启动数秒,使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓,加入新油至额定量(油视镜观察)。连续使用半年以上,换油时应将油盖打开,用布擦干净箱内污垢。2、扩散泵连续使用6个月以上,抽速明显变慢,或操作失当,充入大气,拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。方法是:启动维持泵,关好大门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到6X10帕,否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈,或压坏密封圈。排除漏气隐患后方可加热,否则扩散泵油会烧环,无法进入工作状态。真空镀膜技术的应用主要分为装饰镀膜和工具镀膜。北京离子真空镀膜工艺
真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜等。呼和浩特五金真空镀膜厂
真空镀膜和光学镀膜有什么区别?概念的区别:1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。原理的区别:1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。2、光的干涉在薄膜光学中有较广的应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像质量,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。呼和浩特五金真空镀膜厂
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