广东半导体真空镀膜 苏州方昇光电供应

真空镀膜是一种将待镀材料和被镀基材放置于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，广东半导体真空镀膜，使之蒸发或升华并飞溅到被镀基材表面凝聚成膜的表面处理工艺，真空镀膜工艺可使塑料表面具有金属质感，并赋予一定的导电性能，其基材选择范围广，广东半导体真空镀膜，过程环保无毒，颜色相较电镀更加丰富。此工艺可分为三种类型：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。在内外饰系统中，汽车标牌嵌件是采用真空镀膜的典型零件，广东半导体真空镀膜。通过标牌嵌件背面镀的银色铝膜与淡黄色PMMA基材共同形成了高质量的金色狮子华表图案，汽车标牌嵌件采用的是真空镀膜工艺中的溅射镀膜。真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。广东半导体真空镀膜

用真空镀膜技术代替传统的电镀工艺，不但能节省大量的膜材和降低能耗，而且还会消除湿法镀膜中所产生的环境污染。因此国外在钢铁零件涂镀防腐层和保护膜方面，已采用真空镀膜工艺来代替电镀工艺。在冶金工业中，为钢铁和带钢加镀铝防护层已很普遍；在机械制造业中，真空镀膜工艺用于改变改变某些加工工艺和节约贵重的原材料，如飞机涡轮发动机的叶片已经不用价格昂贵的耐高温金属制造，而是采用价格低廉易加工材料，成形后再用真空镀膜的方法在叶片表面上加镀耐高温，耐腐蚀的防护层。再如汽车制造业中采用塑料制品金属化零件代替各种金属零件，既减轻了汽车的重量又节约了燃油的消耗。在金属切削刀具上加镀TiN硬膜可使用刀具寿命提高3～6倍，从而节省了大量的高速钢材。塑料薄膜采用真空镀膜的方法加镀铝等金属膜，再进行染色，可得到用于工业中的装饰品薄膜。广东半导体真空镀膜真空电镀是真空镀膜工艺的一项新发展。

真空镀膜中二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，沉积在基片上。真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不只是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿，因为一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用(EXBdrift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是只在靶面圆周运动。

真空镀膜是由专门的真空镀膜机完成的，其工作流程及原理为：基片通过镀膜机的机械手的搬运，进入到镀膜机的真空腔体里，经过高压电离的氩离子在强电场及强磁场的作用下，产生高速运动，轰击靶材表面，激发出的金属离子附着在基片表面，形成一层反射膜。基础的真空镀膜知识：1.真空：用真空泵抽掉容器中的气体，使空间内低于一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。2.真空中残存气体的稀薄程度，就是真空程度的高低，即真空度。通常用压力表示单位（Pa）。3.1Pa就是1m2面积上作用1N的压力。1大气压=1.03×105Pa。4.压升率：单位时间内，真空度降低的速率。单位：Pa/h。5.真空泵的抽气简称抽速）（单位：L/S）：当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时，从试验罩流过的气体流量与在试验罩上*位置测得的平衡压力之比。6.极限真空度：（单位：Pa)：在规定条件工作，在不引入气体正常工作的情况下，趋向平稳的较低的压强。真空镀膜意味着物理的气相沉积，是指在真空条件下，用物理方法将材料沉积在镀膜工件上的薄膜制备技术。

真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩薄仿金膜等，从而获得光亮、美观、；**的塑料，陶瓷表面金属化制品。应用于汽车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟、女式鞋后跟等领域。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。真空镀膜尚可延迟镜片老化、变色的时间。广东半导体真空镀膜

真空镀膜技术是表面工程技术领域的重要组成部分。广东半导体真空镀膜

真空镀膜的定义：在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发(或溅射)，使其沉积在被涂覆的物体(称基片、基板或基体)上的方法称为真空镀膜法。真空蒸镀简称蒸镀，是在真空条件下，用一定的方法加热镀膜材料(简称膜料)使之气化，并沉积在工件表面形成固态薄膜。以动量传递的方法，用荷能粒子轰击材料表面，使其表面原子获得足够的能量而飞逸出来的过程称为溅射。磁控溅射是一一种高溅射速率、低基片加热的溅射技术，称为高速低温溅射技术。离子镀膜技术简称离子镀，离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物质或其反应产物沉积在基片上。广东半导体真空镀膜

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